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电子半导体超纯水设备-50T/H

来源:超纯水设备 责任编辑:南昌水处理工程师 发表时间:2018-11-24 13:02 点击:

  电子工业对水质的要求

  微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高,这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。

电子半导体超纯水设备

  50T/H电子半导体超纯水设备适用场合

  1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路。

  2、LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏。

河北11选5官网   3、高品质显像管、萤光粉生产。

  4、半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗,超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料。

  5、实验室和中试车间,汽车、家电表面抛光处理。

  6、光电产品。

  7、其他高科技精微产品。

电子半导体超纯水设备

  50T/H电子半导体超纯水设备工艺

  1、预处理-反渗透-水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水对象

  2、预处理-一级反渗透-加药机( PH调节)-中间水箱-第二级反渗透-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0。2或0。5 μ m精密过滤器-用水对象

  3、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0。2或0。5 μ m精密过滤器-用水对象

  4、 预处理--反渗透--中间水箱--水泵--EDI装置--纯化水箱--纯水泵--紫外线杀菌器--精制抛光混床---TOC分解器-0.2或0.5 μ m精密过滤器-用水对象 (新工艺)

  在光电行业中,前两年,一般采用:反渗透+混床制水工艺较多。这是因为反渗透( RO )技术是一种利用膜分离去除水中离子的方法,尽管反渗透系统将水中 95%-98% 的离子去除,但还不能满足工业生产的要求,其后续工艺必须使用离子交换设备。但由于混床需要周期性的再生且再生过程中使用大量的化学药品(酸碱)和纯水,因此已很难满足于无酸碱纯水系统。

  正因为传统的离子交换已经越来越无法满足现代工业和环保的需要,于是将膜和树脂结合的 EDI 技术成为水处理技术的一场革命。该技术应用电再生离子交换除盐工艺取代传统混合离子交换除盐工艺DI 。通过离子交换树脂及选择性离子膜达到高脱盐效果,与反渗透结合的联合工艺使产水水质可达 10~18M Ω• CM 的高规格产水。 与其它技术诸如电渗析、离子交换和蒸馏相比,具有能耗低、脱盐率高、除菌能力强和操作简单、维护方便的特点,大大节省了运行、维修成本。而且没有废水排放。

  对50T/H电子半导体超纯水设备的需求要了解几点内容

  1、纯水的产水量(按每小时计算)。

  2、纯水要求的水质(例如多少兆欧)。

  3、原水进水水质是什么水(例如自来水)。

  4、制作纯水的工艺(工艺不一样价格也不一样)。

  5、用于生产什么产品(例如电池片)。

  在水处理行业技术都是比较成熟,我们也有做过很多行业的水处理设备,各方面我们有丰富的经验。50T/H电子半导体超纯水设备、电子行业超纯水设备河北11选5官网由于具备性能好、价格低、供货及时、售后服务方便快捷等诸多优势。

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